VACUUM II - C.P.
RegistradaNominativa · Brasil
Marca registrada: vale avaliar o risco de conflito
A marca "VACUUM II - C.P." está registrada no Brasil (SP). Se você usa ou pretende usar um nome similar, pode haver risco de conflito. Vale olhar classes, histórico e despachos antes de decidir o próximo passo.
Panorama da marca
- Situação INPI
- Registro
- Tramitação até registro
- 2 anos e 2 meses
- Eventos no processo
- 7
- Última atualização
- 07 de maio de 2013
Dados do processo
- Tipo de titular
- Pessoa jurídica
- Estado
- SP
- Procurador
- M. C. (pessoa física)
- Número do processo
- 817599142
- Número de registro
- 817599142
- Natureza
- De Produto
- Data do depósito
- 03 de dezembro de 1993
- Data do registro
- 13 de fevereiro de 1996
- Válido até
- 13 de fevereiro de 2006
Produtos e serviços cobertos
Aparelhos e instrumentos científicos, médicos, odontológicos e veterinários.
Linha do tempo do processo
7 eventosMovimentações mais recentes da marca “VACUUM II - C.P.” publicadas na Revista da Propriedade Industrial (RPI). O detalhe de cada despacho fica na consulta completa.
- Andamento07 de mai. de 2013RPI 2209
Registro EXTINTO, com base na norma legal indicada.
Detalhes na consulta completa - Andamento29 de ago. de 2006RPI 1860
LIMITAÇÃO OU ÔNUS, conforme indicado no complemento.
Detalhes na consulta completa - Andamento24 de jul. de 2001RPI 1594
Prove que o signatario do documento de CESSAO tem PODERES contratuais e/ou estatutarios para alienar a marca.
Detalhes na consulta completa
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Conflitos de marcas no Brasil são resolvidos com base na anterioridade do depósito, nas classes de Nice e no segmento de atuação. O processo tem várias fases e pode ficar complexo quando o nome é parecido ou o mercado se cruza. Uma leitura cuidadosa ajuda a decidir se vale seguir, ajustar ou recuar.
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Monitorar marcaDados actualizados a partir de uma base com +6 milhões de marcas brasileiras analisadas. Esta página é informativa e não substitui parecer jurídico, mas ajuda a orientar a decisão com mais contexto comercial e técnico.